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高性能聚酰亞胺薄膜

高性能聚酰亞胺薄膜

WXCPI-091
聚酰亞胺薄膜(WXCPI-091)是由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(ODA)在強極性溶劑中經縮聚并流延成膜再經亞胺化而成。該膜具有優良的物理、化學、電氣絕緣性能,并且耐高低溫、耐溶劑、耐原子輻射,能在-269℃至400℃(-452°F至752°F)的溫度范圍內長期使用。
高性能聚酰亞胺薄膜

高性能聚酰亞胺薄膜

WXCPI-073
聚酰亞胺薄膜(WXCPI-073)是由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(ODA)在強極性溶劑中經縮聚并流延成膜再經亞胺化而成。該膜具有優良的物理、化學、電氣絕緣性能,并且耐高低溫、耐溶劑、耐原子輻射,能在-269℃至400℃(-452°F至752°F)的溫度范圍內長期使用。
高性能聚酰亞胺薄膜

高性能聚酰亞胺薄膜

WXCPI-052
聚酰亞胺薄膜(WXCPI-052)是由均苯四甲酸二酐(PMDA)和二胺基二苯醚(ODA)在強極性溶劑中經縮聚并流延成膜再經亞胺化而成。該膜具有優良的物理、化學、電氣絕緣性能,并且耐高低溫、耐溶劑、耐原子輻射,能在-269℃至400℃(-452°F至752°F)的溫度范圍內長期使用。
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